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J-GLOBAL ID：200903032303791862
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991336260
Publication number (International publication number)：1993152188
Application date： Nov. 26, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】本発明は、マスク上のパターンを基板上に投影する投影露光装置において、共役な位置関係に保持されたマスク及び基板を露光中においても精度良く位置合せする。【構成】パターンを基板上に投影する第1の波長域の照明光とほぼ同一波長域の照明光を第1及び第2のマークに照射すると共に、それぞれからの反射光を検出する第1の位置検出手段と、第1の波長域の照明光と異なる第2の波長域の照明光を第3のマークに照射すると共に、反射光を検出する第2の位置検出手段とを設け、制御手段は第1の位置検出手段からの検出信号に基づいてマスクと基板との相対位置のずれ量をほぼ零に制御し、露光中は第2の位置検出手段からの検出信号の変化に応じて位置合せ制御を継続することにより、オフセツト誤差を従来に比して一段と小さくでき、回路パターンの再現性も向上させることができる。
Claim (excerpt)：
第1の波長域の照明光によつてマスクに形成されたパターンを感光基板上に結像投影する投影光学系を有し、上記パターンと上記感光基板上の露光領域との相対的な位置合わせを行つた後に、上記パターンを上記投影光学系を介して上記露光領域に重ね合わせて露光する投影露光装置において、上記第1の波長域の照明光とほぼ同一波長域の照明光を、上記マスクのパターンの近傍に設けられた第1のマークと上記感光基板上の露光領域の近傍に設けられた第2のマークとに上記投影光学系を介して照射するとともに、上記第1のマークと第2のマークの各々からの光を検出する第1の検出手段と、上記第1の波長域の照明光と異なる第2の波長域の照明光を、上記感光基板上に上記第2のマークと所定の位置関係で設けられた第3のマークに照射するとともに、該第3のマークからの光を検出する第2の検出手段と、上記投影光学系の光軸とほぼ垂直な面内で上記マスクと上記感光基板とを相対的に移動する駆動手段と、上記第1の検出手段からの検出信号に基づいて、上記マスクのパターンと上記露光領域との相対的な位置ずれ量がほぼ零となるように上記駆動手段を制御するとともに、上記マスクのパターンを上記露光領域に露光している間は、上記第2の検出手段からの検出信号の変化に対応して上記駆動手段を制御する制御手段とを具えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/68
