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J-GLOBAL ID：200903032309365784

塗布装置

Inventor： 鈴木 章弘 ,  柴田 徳夫 ,  高橋 伸輔 ,  都丸 美喜男
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992059422
Publication number (International publication number)：1993220438
Application date： Feb. 13, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：

【要約】【目的】 支持体の幅方向不均一があっても塗布厚みが均一で、スジ等の故障がなく電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を高速で安定して製造する装置。【構成】 支持体1の移動方向に対して塗布液を吐出するスリットの上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して前記スリットの下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型ヘッドにより、この支持体上に塗布液を塗布する塗布装置である。支持体1の塗布面に塗布された低粘度の液によって塗布面とフロントエッジ2との間が液封された状態で、塗布層を形成する前記塗布ヘッド先端部のスリット内面4及びフロントエッジ面5及びバックエッジ面6の表面の中心線平均粗さRaが1.0μm以下であり、かつ前記エッジの角部の欠けが10μm以下である塗布装置。

Claim (excerpt)：

支持体移動方向に対して塗布液を吐出するスリットの上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して前記スリットの下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとを有するエクストルージョン型ヘッドにより、少なくとも一種類以上の塗布液を塗布する塗布装置において、前記支持体の塗布面に塗布された低粘度の液によって該塗布面と前記フロントエッジとの間が液封された状態で、前記塗布層を形成する前記塗布ヘッド先端部のスリット内面及びフロントエッジ面及びバックエッジ面の表面の中心線平均粗さが1.0μmRa以下であり、かつ前記エッジの角部の欠けが10μm以下であることを特徴とする塗布装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-020069
  
• 特開平2-207866
  
• 特開平2-207865