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J-GLOBAL ID：200903032335809330

液化ガスを使用した安価な洗浄装置

Inventor： トーマス・ビー・スタンフォード ,  シドニー・シー・チャオ
Applicant, Patent owner： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994213728
Publication number (International publication number)：1995171527
Application date： Sep. 07, 1994
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、コンデンサおよびリサイクルシステムを不要にし、洗浄室の圧力が比較的低く、それによって超臨界洗浄システムの費用を実質的に減少させる洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 周辺温度で約105.4kg/cm2 の最大圧力に耐える容器中の閉鎖された洗浄室17中に洗浄すべき基体を支持し、洗浄室17に取付けられれた超音波エネルギ生成トランスデューサ18と、約63.3kg/cm 2 より小さい圧力下で前記洗浄室中に前記液化ガスを導入する入口手段16と、室17内の温度を制御するための温度制御手段27と、入口手段16に液化ガス12を供給するための貯蔵手段14と、液化ガス12を液体12' に変化させる手段28と、洗浄室17から液体12' を除去する出口手段22とを具備していることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

選択された基体の表面から不所望の粒子および汚染を除去する装置において、(a)不所望の粒子および汚染を含む基体と、液化ガスから導出された液体を含むための、周辺温度で約105.4kg/cm2 の最大圧力に耐えるように構成されている壁を備えた容器中の閉鎖された洗浄室と、(b)前記洗浄室中で前記基体を支持する手段と、(c)前記洗浄室内で前記容器に取付けられれた超音波エネルギ生成トランスデューサ手段と、(d)約63.3kg/cm 2 より小さい圧力下で前記洗浄室中に前記液化ガスを導入するための前記容器に結合された入口手段と、(e)前記室内の温度を約50°Cまで制御するための前記洗浄室に接続された温度制御手段と、(f)前記入口手段に前記液化ガスを供給するための貯蔵手段と、(g)前記液化ガスを液体に変化させる手段と、(h)前記洗浄室から前記液体を除去するための前記洗浄室中の出口手段とを具備していることを特徴とする基体の表面から不所望の粒子および汚染を除去する装置。