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J-GLOBAL ID：200903032349555381

プラズマ気相成長装置

Inventor： 田辺 浩 ,  山田 雄一郎 ,  奥村 智洋 ,  宝珍 隆三
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993225992
Publication number (International publication number)：1995076781
Application date： Sep. 10, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 電極間での、反応ガスの封じ込め性と電界強度分布の均一性とを向上するプラズマ気相成長装置を提供する。【構成】 反応容器1と、ヒータ内蔵接地電極3と、反応ガス吹出し高周波電極9と、高周波電源8とを有するプラズマ気相成長装置において、絶縁セパレータ4によって高周波電極9と接地された反応容器1及び内部装置の金属部との間の空間を遮断してプラズマイオン伝導による電流漏れを防止することと、絶縁セパレータ4と前記空間とによる絶縁間隔を拡げて浮遊静電容量を小さくすることによって、前記両電極間の間隙を狭くしてもヒータ内蔵接地電極3上の電界強度分布の歪みを小さく保つことを可能にし、ヒータ内蔵接地電極3と高周波電極9との間隔を15mm以下にして両電極間での反応ガスの封じ込めを良くする。

Claim (excerpt)：

真空度を保持し反応ガスを高周波電力でプラズマ化して得られる反応生成物を被加工基板上に堆積させるプラズマ気相反応容器と、前記反応容器内で前記被加工基板を保持し保持した被加工基板を加熱する発熱体を内蔵したヒータ内蔵接地電極及びこのヒータ内蔵接地電極に対向する位置に設置された反応ガス吹出し高周波電極と、前記高周波電極に高周波電力を供給する高周波電源とを有するプラズマ気相成長装置において、絶縁セパレータによって前記高周波電極と接地された前記反応容器及び内部装置の金属部との間の空間を遮断すると共に、前記絶縁セパレータと前記空間とで形成される絶縁間隔を浮遊静電容量による電流漏れを防止できる程度の大きさに拡げ、かつ前記ヒータ内蔵接地電極と前記高周波電極との間隔を15mm以下にしたことを特徴とするプラズマ気相成長装置。

IPC (4)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46