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J-GLOBAL ID：200903032353905770

プラズマディスプレイの導電パターン形成方法

Inventor： 千葉 国雄 ,  石塚 重 ,  斎藤 勲
Applicant, Patent owner： メルテックス株式会社
Agent (1)： 米田 潤三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995055043
Publication number (International publication number)：1996227656
Application date： Feb. 20, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 電気抵抗値の低減、微細パターン化、はんだ付けを可能とし、工程が簡便なプラズマディスプレイの導電パターン形成方法を提供する。【構成】 基板上に、無電解メッキによって下地金属層2を形成し、この下地金属層上に所定パターンで絶縁層3を形成し、この絶縁層の隙間部分、すなわち、下地金属層が露出している部分に電気メッキにより金属層4を形成し、絶縁層を除去した後、露出している下地金属層をエッチング除去して、プラズマディスプレイ用の所望の導電パターンを形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に無電解メッキにより下地金属層を形成する第1の工程と、前記下地金属層上に所定パターンで絶縁層を形成し、前記下地金属層が露出している箇所に電気メッキにより金属層を形成する第2の工程と、前記絶縁層を除去し、さらに、絶縁層除去によって露出した前記下地金属層をエッチング除去する第3の工程と、を有することを特徴とするプラズマディスプレイの導電パターン形成方法。

IPC (3)：

H01J 9/02 ,  H01J 1/30 ,  H05K 3/24

FI (3)：

H01J 9/02 F ,  H01J 1/30 B ,  H05K 3/24 A