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J-GLOBAL ID：200903032360286910

皮膜形成方法及び皮膜形成金属素材

Inventor： 佐々木 基寛 ,  吉岡 克昭 ,  長井 勝利
Applicant, Patent owner： 日本ペイント株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996168001
Publication number (International publication number)：1998018092
Application date： Jun. 27, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】 リンやクロム化合物を使用せず、スラッジを発生させない耐食性に優れた金属表面の皮膜形成方法を提供する。【解決手段】 金属素材に対して、(a)脱脂処理工程、(b)下記(b-1)の皮膜形成工程、を順次経て、(b-1)の皮膜形成工程は、(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に浸漬することにより皮膜を形成する工程であり、(A)活性エステル基及びスルホニウム基を同一分子内に含有するモノマー、(B)上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合により得られる活性エステル基を有するエマルション、(C)無機粒子を核として、上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合してなる被覆層で上記無機粒子が被覆された活性エステル基を有する複合エマルションである。

Claim (excerpt)：

金属素材に対して、下記(a)〜(c)の工程を順次経る皮膜形成方法であって、(a)脱脂処理工程、(b)下記(b-1)又は(b-2)の皮膜形成工程、前記(b-1)の皮膜形成工程は、下記(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に浸漬することにより皮膜を形成する工程、(A)活性エステル基及びスルホニウム基を同一分子内に含有するモノマー、(B)上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合により得られる活性エステル基を有するエマルション、(C)無機粒子を核として、上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合してなる被覆層で上記無機粒子が被覆された活性エステル基を有する複合エマルション、前記(b-2)の皮膜形成工程は、上記(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に前記金属素材を浸漬し、この金属素材を陰極として、前記陰極と陽極との間に通電し、前記組成を電気泳動させることにより皮膜を形成する工程、であることを特徴とする皮膜形成方法。