Pat
J-GLOBAL ID：200903032373921208
エキシマレーザ光照射装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 国則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991285700
Publication number (International publication number)：1993102062
Application date： Oct. 04, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、エキシマレーザ光の照射方向を変化させることで、パターンによってレーザ光の光路を遮ることなく、パターン周辺の被処理領域にエキシマレーザ光を均一に照射し、デバイス特性の均一性や安定性の向上を図る。【構成】 エキシマレーザ光31を発振する光源11と、これより発振したエキシマレーザ光31の照射方向側に設けたビームホモジナイザ14と、ビームホモジナイザ14を通ったエキシマレーザ光31の照射方向側に設けたもので、レーザ光入射側に透光性の窓16を形成した処理室15と、処理室15内に設けたステージ17とよりなるものであって、ビームホモジナイザ14を、ステージ17の試料載置面18とほぼ平行な面内で回動可能に設けたものである。またはビームホモジナイザ14と処理室15との間に、エキシマレーザ光31の照射方向を変える照射方向変換器(図示せず)をステージ17の試料載置面18とほぼ平行な面内で回動可能に設けたものである。
Claim (excerpt)：
エキシマレーザ光を発振する光源と、前記光源より発振したエキシマレーザ光の照射方向側に設けたビームホモジナイザと、前記ビームホモジナイザを通ったエキシマレーザ光の照射方向側に設けたもので、照射されるエキシマレーザ光を透過する窓を当該エキシマレーザ光の入射側に形成した処理室と、前記処理室の内部に設けたステージとよりなるエキシマレーザ光照射装置において、前記ビームホモジナイザを、前記ステージの試料載置面に対してほぼ平行な面内で回動可能に設けたことを特徴とするエキシマレーザ光照射装置。
IPC (3)：
H01L 21/268
, H01L 21/324
, H01S 3/00
