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J-GLOBAL ID：200903032383452168

荷電粒子線転写装置

Inventor： 中筋 護
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995285117
Publication number (International publication number)：1997129542
Application date： Nov. 01, 1995
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 収差が小さい荷電粒子線転写装置を提供すること。【解決手段】 マスク1の副視野1aaを通過した荷電粒子線は、偏向器11,12によって光軸RX上を通るように偏向された後に電磁レンズ2に入射する。電磁レンズ2を通過した荷電粒子線は偏向器13,14によって偏向器11,12の偏向方向に対して逆方向に偏向され、マスク1上における副視野1aaの位置に対応する試料10上の位置に導かれる。

Claim (excerpt)：

マスク上の主視野を複数の副視野に分割し、荷電粒子線を投影レンズで試料上に結像して前記副視野のそれぞれに含まれるパターンを順次転写することにより、前記マスクのパターンを試料上に転写する荷電粒子線転写装置において、前記投影レンズの前段に設けられて、前記副視野を通過した荷電粒子線が前記投影レンズの光軸上を進行するように偏向する第1の偏向手段と、前記投影レンズを通過した荷電粒子線を前記第1の偏向手段の偏向方向に対して逆方向に偏向し、前記マスク上における前記副視野の位置に対応する前記試料上の位置に導く第2の偏向手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線転写装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147

FI (4)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C