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J-GLOBAL ID：200903032390751367

表面処理方法及び表面処理装置

Inventor： 山口 静 ,  馬場 昇 ,  寺門 一佳 ,  鍵山 新
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999374359
Publication number (International publication number)：2001192861
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 金属材料部材の表面に密着性に優れた被膜を形成する。【解決手段】 被処理品を配置した減圧容器中にガス物質を供給してプラズマを生成させるとともに、加熱保持した被処理品を陰極として高電圧パルスを印加することによりガス物質のイオンを被処理品表面に注入し内部に拡散させて被処理品の合金元素により化合物を析出させて表面硬化層を形成し、そののち連続して表面硬化層の表面に金属蒸発源からの金属蒸気と反応ガスによって被膜を形成する。

Claim (excerpt)：

被処理品を配置した減圧容器中にガス物質を供給して該ガス物質のプラズマを生成させるとともに、加熱保持した被処理品を陰極として高電圧パルスを印加することによりガス物質のイオンを被処理品表面に注入し内部に拡散させて被処理品の合金元素により化合物を析出させて表面硬化層を形成するステップと、そののち連続して前記表面硬化層の表面に金属蒸発源からの金属蒸気と前記減圧容器内に供給された反応ガスによって被膜を形成するステップとを含むことを特徴とする表面処理方法。

IPC (4)：

C23C 28/02 ,  C23C 8/38 ,  C23C 8/80 ,  C23C 14/02

FI (4)：

C23C 28/02 ,  C23C 8/38 ,  C23C 8/80 ,  C23C 14/02 Z

F-Term (26)：

4K028BA02 ,  4K028BA03 ,  4K028BA12 ,  4K028BA21 ,  4K029AA02 ,  4K029BA54 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BD04 ,  4K029CA10 ,  4K029DE00 ,  4K029GA03 ,  4K044AA02 ,  4K044AA03 ,  4K044BA01 ,  4K044BA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA18 ,  4K044BB03 ,  4K044BC01 ,  4K044BC05 ,  4K044BC06 ,  4K044CA07 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-011762
  
• 特開昭58-064377