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J-GLOBAL ID：200903032438441780

エア-洗浄装置

Inventor： 檜垣 直秀 ,  白幡 哲夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 笹岡 茂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995030000
Publication number (International publication number)：1996197024
Application date： Jan. 26, 1995
Publication date： Aug. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 洗浄精度のばらつきと、塵埃の再付着による付加作業を無くし洗浄装置の作業効率を向上するエア-洗浄装置を提供することにある。【構成】 洗浄室13内には被洗浄物4がセットされ、またブロア8、高性能清浄フィルタ7が被洗浄物4の上方に設けられ、清浄エア-が被洗浄物4上に吹き付けられ、塵埃の再付着が防止される。被洗浄物4の上方にエア-洗浄ノズル2が設置され、矢印の方向に移動しながらクリ-ンエア-供給部1から供給されたエア-を被洗浄物4上に噴出して被洗浄物4を洗浄する。被洗浄物4上方にレ-ザセンサ3が設置され、矢印方向に移動して被洗浄物4上の塵埃の量、大きさを検出し、コントロ-ラ6はその検出信号を受けて塵埃の量、大きさに応じた洗浄ノズルによる洗浄回数等の洗浄条件をエア-洗浄ノズル2及びクリ-ンエア-供給部1に指示し、被洗浄物4を常に均一な洗浄度で洗浄するようにしている。

Claim (excerpt)：

被洗浄物がセットされる洗浄室と、該被洗浄物に対してクリ-ンエア-を噴出する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルにクリ-ンエア-を供給するクリ-ンエア-供給部と、被洗浄物表面への塵埃の付着状態を検出するセンサと、該センサの出力を入力して塵埃の付着状態に応じた洗浄条件を求め前記洗浄ノズルおよびクリ-ンエア-供給部を制御する制御部を備え、被洗浄物の洗浄度を常に均一にすることを特徴とするエア-洗浄装置。

IPC (3)：

B08B 5/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• エアー洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-103385   Applicant：松下電工株式会社
• 特開昭55-102233
  
• エアシャワ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-035064   Applicant：株式会社日立製作所