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J-GLOBAL ID：200903032459474913

指紋照合装置

Inventor： 中島 寛
Applicant, Patent owner： 山武ハネウエル株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993217938
Publication number (International publication number)：1995057092
Application date： Aug. 11, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 精度を落とさず照合スピードを早める。メモリの消費を少なくする。【構成】 登録指紋の紋様中の各特徴点について重要度を決定し、その重要度に関する情報を登録データに含める。重要度はランクとディスタンスとを加算して求める。ランクは、周りに別の特徴点がない目安であり、特徴点Pを中心として段階的に大きい領域として周囲領域S4〜S1を定め、この周囲領域の中から別の特徴点が存在しない最大の周囲領域を求め、その段階に応じてランクを決める。例えば、最大の周囲領域がS1であれば、ランクをレベル「1」とする。ディスタンスは、中心点からの近さの目安であり、特徴点Pについて中心点(原点)からの距離を求め、この距離に応じてディスタンスを決める。例えば、中心点からの距離が0〜9画素中にあれば、ディスタンスをレベル「0」とする。

Claim (excerpt)：

登録指紋として採取された指紋の紋様中に適宜に原点を定め、この原点を中心として直交座標を定めたうえ、前記紋様中の複数の特徴点のデータを抽出し、この抽出した各特徴点のデータを登録データとして記憶しておき、照合指紋として採取された指紋より前記登録指紋と同様にしてその紋様中の複数の特徴点のデータを照合データとして抽出し、この抽出した照合データと前記登録データとに基づき前記照合指紋と前記登録指紋との照合を行う指紋照合装置において、前記登録指紋の紋様中の各特徴点について、その特徴点を中心として段階的に大きい領域として第1〜第Nの周囲領域を定め、これら周囲領域の中から別の特徴点が存在しない最大の周囲領域を求め、この周囲領域の段階に応ずるパラメータを第1のパラメータとする一方、前記原点から各特徴点までの距離に応ずるパラメータを第2のパラメータとし、前記第1のパラメータと前記第2のパラメータとに基づいて各特徴点の重要度を決定する重要度決定手段を備えたことを特徴とする指紋照合装置。

IPC (3)：

G06T 7/00 ,  A61B 5/117 ,  G06T 1/00

FI (3)：

G06F 15/62 460 ,  A61B 5/10 322 ,  G06F 15/64 G