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J-GLOBAL ID:200903032475371750

放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三浦 良和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997282664
Publication number (International publication number):1999109632
Application date: Sep. 30, 1997
Publication date: Apr. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料を提供すること。【解決手段】 極性基を含む脂環式官能基、例えば、ヒドロキシアダマンチル基、及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基、例えば、t-ブチルメタクリレートを1分子中にそれぞれ少なくとも1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)、例えば、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモンからなる放射線感光材料。
Claim (excerpt):
極性基含有脂環式官能基、及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ少なくとも1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。
IPC (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)

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