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J-GLOBAL ID：200903032525012969

マスク共通欠陥判定の方法および装置ならびにマスク共通欠陥チップ測定除外の方法および装置

Inventor： 八重樫 敏彦
Applicant, Patent owner： 岩手東芝エレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999073484
Publication number (International publication number)：2000269275
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】ウェーハテストに際して、マスクの共通欠陥を短時間で判定し、リアルタイムな判定を可能とし、判定結果のばらつきをなくする。【解決手段】半導体製品のウェーハテストの結果を表示したウェーハマップデータを、マスクのショットマップデータに基づき、横軸(X軸)、縦軸(Y軸)の方向に分割して重ね合せ、同一位置における欠陥割合が設定された基準値を越える場合にマスク共通欠陥であると判定することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

半導体製品のウェーハテストの結果を表示したウェーハマップデータを、マスクのショットマップデータに基づき、横軸(X軸)、縦軸(Y軸)の方向に分割して重ね合せ、同一位置における欠陥割合が設定された基準値を満たさない場合にマスク共通欠陥であると判定することを特徴とするマスク共通欠陥判定方法。

F-Term (10)：

4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106DA14 ,  4M106DA15 ,  4M106DH01 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭60-004231