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J-GLOBAL ID：200903032529161314

表面反射防止塗布組成物及びパターン形成方法

Inventor： 西 峰雄 ,  寺本 正史
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996145783
Publication number (International publication number)：1997325500
Application date： Jun. 07, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 水性溶媒にて良好に塗布膜を形成、除去ができ、且つ、従来品と比較して低屈折率が達成できる表面反射防止塗布組成物、及びレジスト塗布膜厚の変化による感度、パターン寸法の変化が抑制されたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 水溶性フッ素化合物、及び水性溶媒を主成分とするフォトレジストの上面に塗布される表面反射防止塗布組成物において、該水溶性フッ素化合物として、重量平均分子量が1100〜6000であるパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を用いる表面反射防止塗布組成物およびこれを用いたパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

水溶性フッ素化合物、及び水性溶媒を主成分とする表面反射防止塗布組成物において、該水溶性フッ素化合物として、重量平均分子量が1100〜6000であるパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を用いることを特徴とする表面反射防止塗布組成物。

IPC (3)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 574