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J-GLOBAL ID:200903032536650029

リホ-ミング用ニッケル系触媒およびこれを用いた合成ガスの製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999104634
Publication number (International publication number):2000000469
Application date: Apr. 12, 1999
Publication date: Jan. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 メタン等の炭化水素と水蒸気等の改質物質とを反応させて合成ガスを製造する際に、炭素質(カーボン)が析出しないようにする。【解決手段】 下記式で表わされる組成を有する複合酸化物からなり、MおよびNiが高分散化状態にあるリホーミング用ニッケル系触媒を使用する。aM・bNi・cMg・dCa・eO(式中、a、b、c、d、eはモル分率であり、a+b+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.0001≦b≦0.10、0.80≦(c+d)≦0.9998、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数であり、Mは周期律表第3B族元素、第4A族元素、第6B族元素、第7B族元素、第1A族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種類の元素である。)
Claim (excerpt):
下記式で表わされる組成を有する複合酸化物からなり、MおよびNiが該複合酸化物中で高分散化されていることを特徴とするリホーミング用ニッケル系触媒。aM・bNi・cMg・dCa・eO(式中、a、b、c、d、eはモル分率であり、a+b+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.0001≦b≦0.10、0.80≦(c+d)≦0.9998、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数であり、Mは周期律表第3B族元素、第4A族元素、第6B族元素、第7B族元素、第1A族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種類の元素である。)
IPC (8):
B01J 23/76 ,  B01J 23/78 ,  B01J 23/835 ,  B01J 23/889 ,  B01J 23/88 ,  B01J 23/89 ,  C01B 3/40 ,  H01M 8/06
FI (8):
B01J 23/76 M ,  B01J 23/78 M ,  B01J 23/88 M ,  B01J 23/89 M ,  C01B 3/40 ,  H01M 8/06 G ,  B01J 23/82 M ,  B01J 23/84 311 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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