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J-GLOBAL ID：200903032538725298

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991210014
Publication number (International publication number)：1993034922
Application date： Jul. 26, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像性および保存安定性などのレジスト特性に優れ、遠紫外線やKrFエキシマレーザー光を用いるリソグラフィーに適したレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、および酸の存在下で架橋可能な化合物を含有するレジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂がアルカリ可溶性部分水添フェノール樹脂であり、かつ、酸の存在下で架橋可能な化合物がテトラアルコキシメチルグリコールウリル単核体を90重量%以上含有するグリコールウリルホルムアルデヒド樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、および酸の存在下で架橋可能な化合物を含有するレジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂がアルカリ可溶性部分水添フェノール樹脂であり、かつ、酸の存在下で架橋可能な化合物がテトラアルコキシメチルグリコールウリル単核体を90重量%以上含有するグリコールウリルホルムアルデヒド樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027