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J-GLOBAL ID：200903032553719210
プラズマ処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249576
Publication number (International publication number)：1994104096
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：
【要約】【構成】高周波源1で発生した電磁波は、矩形導波管2-1、矩形円形変換導波管2-2を経て、大口径の円形導波管2-3と穴付金属板2-4とで形成される、空洞共振器13に入力される。空洞共振器13中には、所望のモードを選択的に通過させるモードフィルタ14を内蔵させる空洞共振器13の出力は、石英板3を経て気密容器4に入力され、プラズマを発生させ、試料台10に加わる交流発生器12により異方性良く安定でかつ高速に試料9を処理する。【効果】空洞共振器とモードフィルタを共用することにより、空洞共振器の管径が大きくなった場合のモード選択機能の低下を、モードフィルタにより強化することにより、管径が大きい場合にも安定で強いプラズマを作ることができる。
Claim (excerpt)：
低圧のガス又はガス状混合物を内部に蓄える気密容器と、該気密容器内にガスを導入する手段及び該気密容器内からガスを排出する手段と、高周波を発生させる高周波発生器と、高周波発生器と該気密容器間に高周波電力を伝達する高周波導入手段と、前記気密容器内に設置された試料を保持するための試料台と、前記高周波導入手段の一部もしくは、前記気密容器内に高周波を共振させるための空洞共振器とを有し、前記気密容器内にプラズマを生成させる様構成されたプラズマ処理装置において、少なくとも2つの電磁界モードに対して高周波の通過率が異なるモードフィルタを前記空洞共振器内に設置したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/302
