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J-GLOBAL ID：200903032568472297

露光工程における基板と原版との位置合わせ方法

Inventor： 三宅 栄一
Applicant, Patent owner： サンエー技研株式会社
Agent (1)： 森田 俊雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992017109
Publication number (International publication number)：1993232714
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 位置合わせされるべき基板および原版のそれぞれに設けられた位置合わせマークにピッチ公差が生じた場合でも、基板と原版とが適正に位置合わせされることを可能にする。【構成】 原版の位置合わせマーク7に基板の位置合わせマーク9を粗く位置合わせした状態とし、この状態において位置合わせマーク7および9をCCDカメラにより光学像として読み取り、この光学像の重心の位置に基づいて位置合わせマーク7と9との位置ずれ量を求め、位置ずれ量が複数の位置合わせマーク7と9との間で平均されるように基板と原版とを相対的に移動させる。

Claim (excerpt)：

複数個の円形の貫通孔からなる第1の位置合わせマークを有する基板と、前記第1の位置合わせマークに対応するものであって、透明領域内に位置しかつ前記第1の位置合わせマークより小さい複数個の円形の非透明領域によって与えられる第2の位置合わせマークを有する原版とを、前記第1の位置合わせマークと前記第2の位置合わせマークとが互いに位置合わせされた状態で配置しながら、前記原版を通して光を前記基板に照射して、前記基板を露光する、そのような露光工程における前記基板と前記原版との位置合わせ方法であって、前記第1の位置合わせマークと前記第2の位置合せマークとが互いに粗く位置合わせされた粗位置合わせ状態とし、前記粗位置合わせ状態において前記第1および第2の位置合わせマークを光学像として読み取り、前記読み取られた光学像の重心の位置に基づいて前記第1の位置合わせマークの各々と対応の前記第2の位置合わせマークの各々との位置ずれ量を求め、前記位置ずれ量が複数の前記第1の位置合わせマークと対応の複数の前記第2の位置合わせマークとの間で平均されるように前記基板と前記原版との相対的移動量を求め、前記移動量に従って前記基板および前記原版の少なくとも一方を移動させる、各ステップを備える、露光工程における基板と原版との位置合わせ方法。

IPC (2)：

G03F 9/00 ,  H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-197953
  
• 特開昭63-197953