Pat
J-GLOBAL ID：200903032577960377
レチクル
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森 哲也 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993163008
Publication number (International publication number)：1995074074
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】ベストフォーカス位置及び最適な現像ローディング効果を、正確に且つ短時間で簡単に調べることが可能なレチクルを提供する。【構成】独立のラインパターン1と独立のスペースパターン2とを同一領域に形成したレチクル。
Claim (excerpt)：
縮小投影露光装置に使用するレチクルにおいて、孤立したラインパターンと孤立したスペースパターンとを同一領域に形成したことを特徴とするレチクル。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 502 P
