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J-GLOBAL ID：200903032590598288

化学蒸着法によるダイヤモンドの合成方法

Inventor： 陳 家富 ,  陳 勝雄 ,  洪 昭明
Applicant, Patent owner： ナショナル・サイエンス・カウンシル
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996023466
Publication number (International publication number)：1997202693
Application date： Jan. 18, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、反応ガスとして爆発危険性のあるガスである従来使用されている水素を使用することなく化学蒸着法によってダイヤモンドを合成させる方法を提供する。【解決手段】 この方法には150°C〜900°Cの基板温度、1〜50Torrの圧力、250〜450Wのマイクロ波出力の条件下で、生成したプラズマによって2成分ガス混合物を分解し、基板上にダイヤモンドを堆積させることが含まれる。この2成分ガス混合物は、0.2〜0.8の炭化水素(Cx Hy )のCO2 に対する流量比を有するCx Hy プラスCO2 又は12〜17のガス化した酸素を含む液状炭化水素(Cx Hy OZ )のCO2 に対する流量比を有するCx Hy OZ プラスCO2 である。180°Cの低温度でも高品質のダイヤモンドを得ることができる。

Claim (excerpt)：

150°C〜900°Cの基板温度、1〜50Torrの圧力、250〜450Wのマイクロ波出力の条件下で、生成したプラズマによって2成分ガス混合物を分解し、基板上にダイヤモンドを堆積させることからなり、この2成分ガス混合物が、0.2〜0.8の炭化水素(Cx Hy )のCO2 に対する流量比を有するCx Hy プラスCO2 及び12〜17の気化した酸素を含む液状炭化水素(Cx Hy OZ )のCO2 に対する流量比を有するCx Hy OZ プラスCO2 からなる混合ガスから選択される、化学蒸着(CVD)法を使用する基板への化学蒸着法によるダイヤモンドの合成方法。

IPC (4)：

C30B 29/04 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  B23B 27/14

FI (5)：

C30B 29/04 D ,  C30B 29/04 X ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  B23B 27/14 A