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J-GLOBAL ID：200903032619240604

純水供給システム及び洗浄方法

Inventor： 大見 忠弘
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991188146
Publication number (International publication number)：1993007705
Application date： Jul. 02, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 水中に溶存する窒素及び酸素を脱気することにより、更には基体表面、特に絶縁膜が除去されたシリコンウエハの表面に対する水の濡れ性を改善することにより、純水をシリコン表面に接触させシリコン上の極微量の不純物をも完全に洗浄除去する洗浄方法及び純水の供給システムを提供することを目的とする。【構成】 純水供給システムは、ユースポイント14に純水を供給するための配管の途中に、水中の窒素及び酸素ガスを脱ガスするための手段10を配したことを特徴とする。更に、脱ガス手段と前記ユースポイントの間に純水と気体とが共存する容器を設け、該容器内部を窒素及び酸素を含有しない気体で充填することを特徴とする。また、気体洗浄方法は、上記純水供給システムにより供給される純水を用いて基体を洗浄することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ユースポイントに純水を供給するための配管の途中に、水中の窒素及び酸素ガスを脱ガスするための手段を配したことを特徴とする純水供給システム。

IPC (2)：

B01D 19/00 101 ,  H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-211926
  
• 特開平3-154682
  
• 特開平4-040270