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J-GLOBAL ID：200903032660764547

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994075918
Publication number (International publication number)：1995281431
Application date： Apr. 14, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイスの製造において、高い解像力を有し、フオトマスク線幅の広い範囲にわたってマスク寸法を正確に再現し、1μm以下の線幅のパターンにおいて高いアスペクト比を有し、且つ、側壁が垂直に近い断面形状のレジストパターンを生成することができ、広い現像ラチチユードを有し、更に、得られるレジスト像が耐熱性に優れるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含有するポジ型フオトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂が、下記一般式[1]で表されるフェノール類の少なくとも1種と一般式[2]で表される化合物の少なくとも1種を含有する混合物と、アルデヒド類とを縮合させることにより得られるノボラック樹脂を含むポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含有するポジ型フオトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂が、下記一般式[1]で表されるフェノール類の少なくとも1種と一般式[2]で表される化合物の少なくとも1種を含有する混合物と、アルデヒド類とを縮合させることにより得られるノボラック樹脂を含むことを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R3:同一でも異なっても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基もしくはアリールカルボニル基、R4〜R5:同一でも異なっても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基もしくはアラルキル基、を表す。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027