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J-GLOBAL ID：200903032672929959

プラズマ処理装置

Inventor： 岡本 紀代子
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 穂上 照忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992071931
Publication number (International publication number)：1993275379
Application date： Mar. 30, 1992
Publication date： Oct. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】プラズマ処理におけるパーティクルの発生防止。【構成】(1) 少なくとも排気系のバリアブルオリフィス4を加熱する手段10を設けたプラズマ処理装置。。(2) 反応室1とバリアブルオリフィス4との間に、排気管延長部3を設けたプラズマ処理装置。(3) 上記(1) と(2) を組み合わせたプラズマ処理装置。(4) ゲートバルブ2を反応室1とバリアブルオリフィス4との間に置いた上記(1)〜(3) のプラズマ処理装置。図2に示すように、反応室および排気系の全体を加熱するのが望ましい。【効果】パーティクル発生の主原因であるバリアブルオリフィスを加熱し、あるいは反応室から遠ざけることによって、パーティクル発生を効果的に防止できる。

Claim (excerpt)：

プラズマを発生する手段を有し、発生したプラズマにより試料を処理するための反応室と、この反応室内にガスを供給するためのガス導入管と、前記反応室内を排気し圧力を制御するために設けられた排気管、バリアブルオリフィス、ゲートバルブおよび排気ポンプを含む排気系を備えたプラズマ処理装置であって、少なくとも前記バリアブルオリフィス部を加熱する手段を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-306580
  
• 特開平1-092367
  
• 特開平1-155100