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J-GLOBAL ID：200903032676204614

ウェット還元法による極微細ニッケル粉末の製造方法

Inventor： 尹 善 美 ,  崔 在 榮 ,  李 容 均 ,  ユリア ポターポヴァ
Applicant, Patent owner： 三星電機株式会社
Agent (3)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005242767
Publication number (International publication number)：2006063449
Application date： Aug. 24, 2005
Publication date： Mar. 09, 2006
Summary：

【課題】 ウェット還元法による極微細ニッケル粉末の製造方法を提供する。【解決手段】 水と塩基とを混合して製造された第1溶液を準備する工程10、ポリオールとニッケル化合物とを混合して製造された第2溶液を準備する工程11、第1溶液と第2溶液とを混合して混合物を製造する工程12、混合物を加熱する工程16、及び加熱工程で生成されたニッケル粉末を分離する工程17を含むニッケル粉末の製造方法である。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

水と塩基とを混合して製造された第1溶液を準備する工程と、 ポリオールとニッケル化合物とを混合して製造された第2溶液を準備する工程と、 前記第1溶液と前記第2溶液とを混合して混合物を製造する工程と、 前記混合物を加熱する工程と、 前記加熱工程で生成されたニッケル粉末を分離する工程と、を含むことを特徴とするニッケル粉末の製造方法。

IPC (2)：

B22F 9/24 ,  H01G 4/12

FI (3)：

B22F9/24 C ,  H01G4/12 364 ,  H01G4/12 361

F-Term (12)：

4K017AA03 ,  4K017BA03 ,  4K017CA07 ,  4K017DA01 ,  4K017DA08 ,  4K017EJ01 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07 ,  5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AH01 ,  5E001AJ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 米国特許第4,539,041号明細書
  

Cited by examiner (1)

• 金属粉末の製造方法、金属粉末、導電性ペースト、積層セラミック電子部品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-206061   Applicant：株式会社村田製作所