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J-GLOBAL ID:200903032680870319

含フッ素化合物を含む光学薄膜とその形成方法、および光反射防止性物品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中尾 充
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997155427
Publication number (International publication number):1999001633
Application date: Jun. 12, 1997
Publication date: Jan. 06, 1999
Summary:
【要約】【課題】耐擦傷性、耐久性に優れ、形成容易な低屈折率の光学薄膜。【解決手段】化1の一般式(1)で示される化合物を含有する組成物を硬化して形成した、厚さ30〜700nm、屈折率が1.45以下の光学薄膜を提供する。一般式(1)の化合物中、nが4〜12であって、A1 ,A2 ,A3 ,A4のいずれかがアクリロイル基、かついずれかにウレタン結合残基をもつ化合物が好適である。前記化合物を基材表面に塗布し、ラジカル熱重合、光重合、電子線重合などにより重合、硬化して形成するとよい。単独、又はハードコート、高屈折率膜や高導電性膜などと組合わせ、CRT、プラズマディスプレイ、液晶パネル、ガラス、レンズなどにおいて可視光線の反射防止に用いることができる。【化1】
Claim (excerpt):
一般式(1)で示される化合物を含有する組成物を硬化してなり、かつ、屈折率が1.45以下であることを特徴とする光学薄膜。【化1】
IPC (6):
C09D 5/00 ,  C09D 4/02 ,  C09D175/16 ,  G02B 1/11 ,  G09F 9/00 318 ,  H01J 5/08
FI (7):
C09D 5/00 M ,  C09D 5/00 C ,  C09D 4/02 ,  C09D175/16 ,  G09F 9/00 318 A ,  H01J 5/08 ,  G02B 1/10 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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