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J-GLOBAL ID：200903032745762772

光投影露光装置

Inventor： 佐瀬 善光 ,  杉山 秀司 ,  押田 良忠 ,  吉武 泰裕
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991343741
Publication number (International publication number)：1993175096
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光投影露光装置のTTL(Through The Lenz)方式のウエハアライメントにおいて、広い波長帯域光の採用し、実用的な光学系により投影レンズの色収差の影響を容易に補正できるようにする。【構成】 投影レンズを通して得られるウェハアライメントマークからの広波長帯域の反射光を波長分離ミラーにより波長分割してそれぞれ毎に色収差を補正し、各波長帯域の光検出信号レベルで各色収差補正光学系の光学倍率の相違に基づくウェハアライメントマークの位置情報誤差を補正し、さらにこれらの信号を合成して波形の非対称性を補正する。

Claim (excerpt)：

投影レンズを介してアライメント検出用の光をウエハ上に設けたアライメントマークに照明し、その反射光を上記投影レンズを介して取り出すアライメント検出系により上記ウエハの位置を調整し、上記投影レンズを介して原画マスクの光学像をウェハ(被露光体)上に転写する光投影露光装置において、上記アライメントマークからの反射光の波長帯域を分割する波長帯域分割手段と、上記波長帯域分割手段により分割された各波長帯域内の光信号をそれぞれ毎に色収差補正して所定の位置に結像する色収差補正光学系を設けたことを特徴とする光投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00