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J-GLOBAL ID：200903032757710069

異物検査装置

Inventor： 森重 良夫
Applicant, Patent owner： 日立電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994084111
Publication number (International publication number)：1995270326
Application date： Mar. 30, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フーリェ変換パターンを用いなくてもより微小な異物を精度よく検出でき、検出対象がメモリ等の規則的なパターンを持つ被検体に限定されることがない異物検査装置を実現することにある。【構成】 ウエハ等の基板状のパターンに対してほぼ45 ゚でかつ低投影角でレーザビームを照射したときにパターンの散乱光のうち後方散乱がほとんど少なくなる性質を利用して半円形遮光フィルタを集光レンズの手前に設けて後方散乱のみを通過させるようにしているので、フーリェ変換パターンのフィルタを用いなくても微細異物の検出ができ、メモリ等の規則的なパターンを持つ被検体に限定されずに、微小な異物を精度よく検出できる。

Claim (excerpt)：

縦あるいは横方向の直線状の微細パターンを有するウエハ,レチクル,TFTガラス基板等の被検体の表面にレーザビームを照射して散乱光を集光レンズにより集光し、光学センサで受光してその強度を検出することにより前記被検体の表面に付着した異物を検出する異物検査装置において、前記レーザビームの照射点を相対的にXY方向に走査させる走査機構と、前記XY方向の走査において前記レーザビームが前記微細パターンの縦あるいは横方向に対してほぼ45 ゚の角度でかつ前記被検体の表面側からみて数度の投射角で照射する光源と、前記集光レンズの手前に設けられ前記レーザビームの方向に対して前方の散乱光を遮断するフィルタと、を備えることを特徴とする異物検査装置。