Pat
J-GLOBAL ID:200903032759088888

位置検出装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 稲本 義雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991309690
Publication number (International publication number):1993118879
Application date: Oct. 29, 1991
Publication date: May. 14, 1993
Summary:
【要約】【目的】 検出光量を増大して位置検出信号のS/N比を向上し、後処理回路の負担を軽減することのできる位置検出装置を提供する。【構成】 投光部1が部分反射部4に出射する検出光の入射角と、部分反射部4により反射し受光部により受光される検出光の反射角とを等しくした。
Claim (excerpt):
検出光を出射する投光部と、検出光を受光する受光部と、透過率の高い領域と透過率の低い領域とからなるパターンが一定ピッチで連続的に形成された第1の部材と、強度の大きな反射光を生成する領域と強度の小さな反射光を生成する領域とからなるパターンが、前記第1の部材の前記パターンと同じピッチで連続的に形成された第2の部材とからなる位置検出装置であって、前記投光部が前記第2の部材に出射する検出光の入射角と、前記第2の部材により反射し前記受光部により受光される検出光の反射角とを等しくしたことを特徴とする位置検出装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭56-118606

Return to Previous Page