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J-GLOBAL ID：200903032771693541

露光装置及び露光方法

Inventor： 小山 元夫 ,  加藤 正紀
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000114680
Publication number (International publication number)：2001297975
Application date： Apr. 17, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】 重複領域及び非重複領域において高精度なパターンを形成する。【解決手段】 ワーク上で周辺部が部分的に重なる複数の領域にそれぞれパターンを転写するために、前記周辺部での露光量を徐々に減少させる設定手段を介して前記各領域をエネルギービームで走査露光する方法であって、前記部分的に重なる領域の露光量は、該重なる領域とは異なる領域の露光量とは独立に設定可能でありかつ連続的に調整可能とした。

Claim (excerpt)：

ワーク上で周辺部が部分的に重なる複数の領域にそれぞれパターンを転写するために、前記周辺部での露光量を徐々に減少させる設定手段を介して前記各領域をエネルギービームで走査露光する方法において、前記部分的に重なる領域の露光量は、該重なる領域とは異なる領域の露光量とは独立に設定可能であり、かつ連続的に調整可能であることを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514 C

F-Term (3)：

5F046BA05 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01