Pat
J-GLOBAL ID:200903032788126632
電力合成器およびマイクロ波導入機構
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高山 宏志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008072192
Publication number (International publication number):2009230915
Application date: Mar. 19, 2008
Publication date: Oct. 08, 2009
Summary:
【課題】電力損失にともなう発熱の問題を生じさせずに、かつ簡易に電力合成することができる電力合成器を提供すること。【解決手段】電力合成器100は、筒状をなす本体容器1と、本体容器1の側面に設けられた電力を電磁波として導入する複数の電力導入ポート2と、複数の電力導入ポート2にそれぞれ設けられた複数の給電アンテナ6と、複数の給電アンテナ6から本体容器1内に放射された電磁波を空間合成する合成部10と、合成部10で合成された電磁波を出力する出力ポート11とを具備し、給電アンテナ6は、電力導入ポート2から電磁波が供給される第1の極21および供給された電磁波を放射する第2の極22を有するアンテナ本体23と、アンテナ本体23から側方へ突出するように設けられた、電磁波を反射させる反射部24とを有する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
筒状をなす本体容器と、
前記本体容器の側面に設けられた電力を電磁波として導入する複数の電力導入ポートと、
前記複数の電力導入ポートにそれぞれ設けられ、供給された電磁波を前記本体容器内に放射する複数の給電アンテナと、
前記複数の給電アンテナから前記本体容器内に放射された電磁波を空間合成する合成部と、
前記合成部で合成された電磁波を出力する出力ポートと
を具備し、
前記給電アンテナは、前記電力導入ポートから電磁波が供給される第1の極および供給された電磁波を放射する第2の極を有するアンテナ本体と、前記アンテナ本体から側方へ突出するように設けられた、電磁波を反射させる反射部とを有し、前記アンテナ本体に入射された電磁波と前記反射部で反射された電磁波とで定在波を形成するように構成され、
前記各給電アンテナから放射された定在波である電磁波が前記合成部で合成されることを特徴とする電力合成器。
IPC (3):
H05H 1/46
, H01L 21/306
, C23C 16/511
FI (3):
H05H1/46 B
, H01L21/302 101D
, C23C16/511
F-Term (16):
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 5F004AA16
, 5F004BA16
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BC08
, 5F004CA06
, 5F004DA23
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-044466
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
-
プラズマ発生装置およびそれを用いたイオン源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-047297
Applicant:日新電機株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-216082
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
3次元中空容器の薄膜成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-303817
Applicant:凸版印刷株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-158199
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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Cited by examiner (5)
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-044466
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
-
プラズマ発生装置およびそれを用いたイオン源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-047297
Applicant:日新電機株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-216082
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
3次元中空容器の薄膜成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-303817
Applicant:凸版印刷株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-158199
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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