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J-GLOBAL ID:200903032850994581
膜形成材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
白井 重隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000001062
Publication number (International publication number):2001192531
Application date: Jan. 06, 2000
Publication date: Jul. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】 広範囲の温度領域にわたって高いプロトン伝導性を有し、水中での膨潤が抑制され、耐久性に優れるプロトン伝導性の膜形成材料を提供すること。【解決手段】 特定の繰り返し構造単位50モル%以上からなり、かつ分子中にスルホン酸基を有する重合体からなる膜形成材料。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表される繰り返し構造単位、下記一般式(2)で表される繰り返し構造単位、および下記一般式(3)で表される繰り返し構造単位の群から選ばれた少なくとも1種の繰り返し構造単位50モル%以上からなり、かつ分子中にスルホン酸基を有する重合体からなる膜形成材料。【化1】〔式中、Xは-CYY′-(ここで、Y〜Y′は同一または異なり、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基またはアリール基を示す)で表される基、またはフルオレニレン基を示し、R1 〜R8 は同一または異なり、水素原子、スルホン酸基、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリル基、またはアリール基である。〕【化2】(式中、R9 〜R12は、同一または異なり、スルホン酸基、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アリール基または官能基を含む1価の有機基を示す。)【化3】〔式中、R9 〜R12は、一般式(2)に同じ。〕
IPC (7):
C08L 61/00
, G01N 27/333
, H01B 1/06
, H01G 9/028
, H01M 6/18
, H01M 8/02
, H01M 10/40
FI (7):
C08L 61/00
, H01B 1/06 A
, H01M 6/18 E
, H01M 8/02 P
, H01M 10/40 B
, G01N 27/30 331 C
, H01G 9/02 331 G
F-Term (16):
4J002CE001
, 4J002CN041
, 4J002GQ00
, 4J002GQ02
, 5G301CA30
, 5G301CD01
, 5H024FF21
, 5H024FF32
, 5H024FF38
, 5H024HH01
, 5H026CX05
, 5H026EE18
, 5H026HH01
, 5H026HH05
, 5H029AM16
, 5H029EJ14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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官能基化されたコポリ(m-フェニレン)に基づく固体重合体電解質
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-512297
Applicant:フラウンホファー.ゲゼルシャフト.ツール.フォルデンウング.デール.アンゲヴァンドテン.フォルシュング.エー.ファウ
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プロトン伝導性高分子固体電解質
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-268064
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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ポリフェニレンコポリマー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-290789
Applicant:マクスデムインコーポレイティド
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新規導電性重合体およびその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-122738
Applicant:昭和電工株式会社
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特表平6-510314
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