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J-GLOBAL ID：200903032886197238

基板自動検査装置

Inventor：
小野 順一

About 小野 順一


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997062881
Publication number (International publication number)：1998260139
Application date： Mar. 17, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ライン状の撮像素子を持つカメラを用い、ミクロ検査では発見が困難な大きな欠陥やうすいムラ状の欠陥を検出可能なマクロ画像を作成できる。【解決手段】 被検査基板3について、ライン状に配列する複数の画素からなる画像を連続的に撮像する撮像手段2と、被検査基板を設置する基板設置部1と、撮像手段による連続的な撮像により基板の全体画像を得ることが可能なように、撮像手段及び基板設置部の相対位置を順次変更する移動手段22,5と、基板の全体画像において、この全体画像を複数の画素を含む複数の連続領域からなるものとし、各画素の光量情報に基づき各連続領域における光量の加算平均値をその連続領域の画素値として算出するとともに、各連続領域を新たな画素として全体画像に対応したマクロ画像を作成するマクロ画像処理手段8,7,7aとを備えた基板自動検査装置。
Claim (excerpt)：
被検査基板を検査する基板自動検査装置において、前記基板について、ライン状に配列する複数の画素からなる画像を連続的に撮像する撮像手段と、前記基板を設置する基板設置部と、前記撮像手段による連続的な撮像により前記基板の全体画像を得ることが可能なように、前記撮像手段及び前記基板設置部の相対位置を順次変更する移動手段と、前記基板の全体画像において、この全体画像を複数の前記画素を含む複数の連続領域からなるものとし、前記各画素の光量情報に基づき各連続領域における光量の加算平均値をその連続領域の画素値として算出するとともに、前記各連続領域を新たな画素として前記全体画像に対応したマクロ画像を作成するマクロ画像処理手段とを備え、このマクロ画像を前記被検査基板の検査のために供することを特徴とする基板自動検査装置。
IPC (5)：
G01N 21/88 ,  G01M 11/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505
FI (5)：
G01N 21/88 F ,  G01M 11/00 T ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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