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J-GLOBAL ID：200903032889614999

電解次亜水生成装置

Inventor： 山本 良平
Applicant, Patent owner： アイケン工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999360110
Publication number (International publication number)：2001170643
Application date： Dec. 20, 1999
Publication date： Jun. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】高温の電解次亜塩素酸含有水溶液を生成する機構を有することによって、塩素を有機物と速やかに反応させ、低濃度の残留塩素で十分な殺菌力を満たす電解次亜塩素酸含有水溶液生成装置を提供することを課題とする。【解決手段】原水に食塩を添加した水溶液を電気分解し、電解次亜塩素酸含有水溶液を生成し、原水を希釈水として生成された電解次亜塩素酸含有水溶液を任意の濃度に希釈する電解次亜塩素酸含有水溶液生成装置に於いて、生成のための原水の給水口と前記希釈水の給水口を別々に設け、それぞれに水量調整機能を設け、かつ、希釈水に温水を使用することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

原水に食塩を添加した水溶液を電気分解し、電解次亜塩素酸含有水溶液を生成し、原水を希釈水として生成された電解次亜塩素酸含有水溶液を任意の濃度に希釈する電解次亜塩素酸含有水溶液生成装置に於いて、生成のための原水の給水口と前記希釈水の給水口を別々に設け、それぞれに水量調整機能を設け、かつ、希釈水に温水を使用することを特徴とする電解次亜塩素酸含有水溶液生成装置。

IPC (6)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76

FI (6)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/76 A

F-Term (19)：

4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050BB06 ,  4D050BC01 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050CA10 ,  4D061DA08 ,  4D061DB01 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB19 ,  4D061EB21 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED13 ,  4D061FA20 ,  4D061GA02 ,  4D061GC02