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J-GLOBAL ID：200903032925910826

投影光学装置

Inventor：
西 健爾

About 西 健爾


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992284371
Publication number (International publication number)：1994132195
Application date： Oct. 22, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】 パルス発光型の光源を用いてスティッチング及びスリットスキャン露光方式で露光を行う場合に、感光基板上で2回走査されて露光される接続部の照度むらを低減する。【構成】 ウエハ上の露光領域を矩形のスリット状の露光領域20Pとして、露光領域20Pに対してX方向又は-X方向にウエハを走査して露光を行う。露光領域20PのY方向の照度分布Sを台形状にして、ウエハ上の接続部では、露光領域20Pの右側の照度が次第に低下する領域20aPと左側の照度が次第に低下する領域20bPとで露光が行われるようにする。
Claim (excerpt)：
露光光をパルス発光するパルス光源と、前記露光光で転写用のパターンが形成されたマスクを均一な照度で照明する照明光学系と、前記マスク上の前記露光光による照明領域を設定する視野絞りと、前記マスクの転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記露光光による照明領域の所定の方向に相対的に前記マスク及び前記感光基板を同期して走査する相対走査手段とを有し、前記マスク上の前記露光光による照明領域よりも広い領域の転写用のパターンの像を前記感光基板上に露光する投影光学装置において、前記露光光による照明領域の前記所定の方向に交差する第2の方向に相対的に前記感光基板を移動させる基板移動手段と、前記露光光による照明領域の前記第2の方向の照度分布を台形状にする照度分布設定手段とを設け、前記感光基板を前記露光光による照明領域の前記第2の方向にずらしながら、前記露光光による照明領域の前記所定の方向に前記感光基板を相対的に複数回走査して、前記マスク又は該マスクと交換されたマスクの転写用のパターンの像を前記感光基板上に露光する事を特徴とする投影光学装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 9/00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特開昭61-280619
  • 特開平2-229423
  • 特開平4-196513
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Cited by examiner (3)
  • 特開昭61-280619
  • 特開平2-229423
  • 特開平4-196513

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