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J-GLOBAL ID:200903032975086849
マイクロ波焼成炉
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004121376
Publication number (International publication number):2005310382
Application date: Apr. 16, 2004
Publication date: Nov. 04, 2005
Summary:
【課題】 低温域昇温及び高温域昇温を、マイクロ波加熱のみで効率良く実現することができ、焼成処理時の被焼成体における温度勾配の発生を効果的に防止することができ、マイクロ波的に安定し、構造の単純化したマイクロ波焼成炉を提供する。【解決手段】 マイクロ波を照射される金属製キャビティと、該キャビティ内に設けられたマイクロ波の吸収特性の低く断熱性の高い断熱材で囲まれた焼成室、及びマイクロ波発生手段とを備えたマイクロ波焼成炉において、前記焼成室には、マイクロ波損失の大きい物質が前記金属製キャビティから、使用されるマイクロ波の波長λに関して1/4λを超える以上の距離を置いてマイクロ波電界の弱い場所に配設されていることを特徴とするマイクロ波焼成炉。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
マイクロ波を照射される金属製キャビティと、該キャビティ内に設けられたマイクロ波の吸収特性の低く断熱性の高い断熱材で囲まれた焼成室、及びマイクロ波発生手段とを備えたマイクロ波焼成炉において、前記焼成室には、マイクロ波損失の大きい物質が前記金属製キャビティから、使用されるマイクロ波の波長λに関して1/4λを超える距離を置いてマイクロ波電界の弱い場所に配設されていることを特徴とするマイクロ波焼成炉。
IPC (5):
H05B6/74
, F27B17/00
, F27D11/12
, H05B6/64
, H05B6/80
FI (5):
H05B6/74 A
, F27B17/00 C
, F27D11/12
, H05B6/64 D
, H05B6/80 Z
F-Term (15):
3K090AA02
, 3K090AA04
, 3K090AB13
, 3K090BA01
, 3K090BB01
, 3K090BB03
, 3K090EB06
, 3K090FA03
, 3K090LA05
, 3K090PA03
, 4K063AA06
, 4K063BA04
, 4K063CA01
, 4K063CA08
, 4K063FA82
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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マイクロ波焼結方法及びマイクロ波焼結炉
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-166074
Applicant:富士電波工業株式会社, 核融合科学研究所長
-
特開平2-275777号公報(第3頁、図1)
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マイクロ波焼成炉及び焼成釜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-112499
Applicant:東海高熱工業株式会社
-
焼成炉、焼成体の製造方法及び焼成体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-319416
Applicant:核融合科学研究所長, 岐阜県
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Cited by examiner (6)
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高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-278781
Applicant:松下電器産業株式会社
-
高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-065016
Applicant:松下電器産業株式会社
-
高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-077076
Applicant:松下電器産業株式会社
-
特開昭55-118588
-
高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-335409
Applicant:松下電器産業株式会社
-
焦げ目付け皿およびそれを用いた高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-045629
Applicant:松下電器産業株式会社
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