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J-GLOBAL ID：200903032975223706
レチクルの合わせ測定用マーク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997016075
Publication number (International publication number)：1998213895
Application date： Jan. 30, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：
【要約】【課題】 レチクルの位置合わせ精度を向上できるような合わせ精度測定用マークを備えたレチクルを提供する。【解決手段】 本レチクル30は、フォトリソグラフィによりウエハ上にパターンを転写する際に使用するレチクルであって、スクライブライン領域34に設けられた合わせ精度測定用マーク40を構成する線状域42、44が、レチクルのチップ領域32の回路パターンを構成する図形と同じ図形の集合からなる。
Claim (excerpt)：
フォトリソグラフィによりウエハ上に回路パターンを転写する際に使用するレチクルの合わせ測定用マークであって、レチクルのスクライブライン領域に設けた合わせ精度測定用マークが、微細図形の集合で構成されていることを特徴とするレチクルの合わせ測定用マーク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 N
, H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 502 V
