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J-GLOBAL ID：200903032994905761

光学材料の製造方法

Inventor：
田村 保暁

About 田村 保暁


Applicant, Patent owner：
日本電信電話株式会社

About 日本電信電話株式会社


Agent (1)： 雨宮 正季
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995117893
Publication number (International publication number)：1996288582
Application date： Apr. 19, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：
【要約】【目的】活性剤の価数状態の制御性に優れた光学材料の製造方法に関する。【構成】光学材料の合成工程、あるいは合成後の熱処理工程の少なくとも一つの工程において、価数変換前の活性剤イオンのポテンシャル曲線1が励起状態2になるような波長の光を照射して製造することを特徴とする。【効果】 活性剤として、希土類元素あるいは遷移金属元素から選択される少なくとも1種の元素を含有する光学材料の製造方法を材料の温度を制御した状態で価数変換前の活性剤イオンのポテンシャル曲線が励起状態になるような波長の光を照射して製造する製造する方法とすることにより、活性剤の価数状態の制御性に優れた製造方法を提供することができる。
Claim (excerpt)：
活性剤として、希土類元素あるいは遷移金属元素から選択される少なくとも1種の元素を含有する単結晶からなる光学材料の製造方法であり、該光学材料の結晶成長工程、あるいは結晶成長後の熱処理工程の少なくとも一つの工程において、活性剤イオンの光吸収波長帯域内の波長の光、あるいは活性剤イオンの光吸収波長帯域の波長を含む光を照射することを特徴とする光学材料の製造方法。
IPC (6)：
H01S 3/16 ,  B01J 19/12 ,  C09K 11/55 CPC ,  C30B 29/28 ,  C30B 30/00 ,  C30B 33/02
FI (6)：
H01S 3/16 ,  B01J 19/12 B ,  C09K 11/55 CPC ,  C30B 29/28 ,  C30B 30/00 ,  C30B 33/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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