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J-GLOBAL ID：200903033010000310
整髪用被膜形成樹脂
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
特許業務法人アルガ特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002263740
Publication number (International publication number)：2004099525
Application date： Sep. 10, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：
【課題】高湿度下でもべたつくことなく、ヘアスタイルを長時間保持できると共に、洗浄性にも優れ、シャンプーで容易に除去でき、かつ使用後の仕上がりの美しい整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料を提供すること。【解決手段】次のモノマー成分(A)〜(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料。(A) CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3:0.5〜20重量%(B) CH2=C(R1)-COOR4 :20〜98.5重量%(C) CH2=C(R1)-COO-R5-OH:0.5〜60重量%、(D) カルボキシ基含有エチレン性不飽和モノマー:0.5〜50重量%〔R1:水素原子又はメチル基、R2:C1〜C3の2価飽和炭化水素基、R3:C1〜C3ののアルキル基又はアセチル基、R4はC1〜C18のアルキル基、R5はC2〜C8のアルキレン基〕【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
次の成分(A)〜(D)
(A) 一般式(1)
CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3 (1)
〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜3の2価飽和炭化水素基を示し、R3は炭素数1〜3のアルキル基又はアセチル基を示す。〕
で表されるシロキシ基含有(メタ)アクリレート系モノマー:0.5〜20重量%、
(B) 一般式(2)
CH2=C(R1)-COOR4 (2)
〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R4は炭素数1〜18のアルキル基を示す。〕
で表される(メタ)アクリレート系モノマー:20〜98.5重量%、
(C) 一般式(3)
CH2=C(R1)-COO-R5-OH (3)
〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R5は炭素数2〜8のアルキレン基を示す。〕
で表される水酸基含有(メタ)アクリレート系モノマー:0.5〜60重量%、
(D) カルボキシ基含有エチレン性不飽和モノマー:0.5〜50重量%
を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (16)：
4C083AC022
, 4C083AC102
, 4C083AC182
, 4C083AC352
, 4C083AC482
, 4C083AC542
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083AD151
, 4C083AD152
, 4C083AD162
, 4C083CC32
, 4C083DD08
, 4C083DD27
, 4C083DD41
, 4C083EE03
Cited by examiner (3)
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特開平4-360815
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耐水性改質剤
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-042864
Applicant：大阪有機化学工業株式会社
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特開平1-290620
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