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J-GLOBAL ID:200903033024919456
薄膜太陽電池の製法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996513835
Publication number (International publication number):1998512096
Application date: Oct. 20, 1995
Publication date: Nov. 17, 1998
Summary:
【要約】太陽電池の電気的バック接点をなす金属層(2)を含む構造体にセレン化銅インジウム(CuInSe2)(3)を1回の製造工程で被覆し、このバック接点が基体(1)上に被覆されている薄膜太陽電池の製法。本発明はCuInSe2層(3)を被覆する前にアルカリ金属含有層(6)を構造体上に形することを特徴とする。
Claim (excerpt):
太陽電池の電気的バック接点をなす金属層(2)を含む構造体にセレン化銅インジウム(CuInSe2)(3)を1回の製造工程で被覆し、このバック接点が基体(1)上に被覆されている薄膜太陽電池の製法において、CuInSe2層(3)を被覆する前にアルカリ金属含有層(6)を構造体上に形成することを特徴とする、上記製法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開平4-320381
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光起電装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-164763
Applicant:富士電機株式会社
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特開平2-094669
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光受容部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-119347
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-236333
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開昭62-007169
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