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J-GLOBAL ID：200903033046368690
レーザ刻印装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992099976
Publication number (International publication number)：1993293677
Application date： Apr. 20, 1992
Publication date： Nov. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 レーザ刻印装置に関し、如何なる薄膜回路が形成されている回路基板にも表示品質の優れた刻印表示を行なわしめることで生産性の向上を図ることを目的とする。【構成】 レーザ発振部21から射出するレーザ光を安定させた状態で二次元方向にスキャンニングしながら回路基板1上の表示専用域に収束照射し、該表示専用域に所要の文字記号等を刻印するレーザ刻印装置であって、レーザ光を二次元方向にスキャンニングさせるスキャナ25直前の光軸上に、該レーザ光のパワーを減衰させる減衰器31を該光軸に対して着脱自在に具えて構成する。
Claim (excerpt)：
レーザ発振部(21)から射出するレーザ光を安定させた状態で二次元方向にスキャンニングしながら回路基板(1) 上の表示専用域に収束照射し、該表示専用域に所要の文字記号等を刻印するレーザ刻印装置であって、レーザ光を二次元方向にスキャンニングさせるスキャナ(25)直前の光軸上に、該レーザ光のパワーを減衰させる減衰器(31)が該光軸に対して着脱自在に具えられて構成されていることを特徴としたレーザ刻印装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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