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J-GLOBAL ID：200903033053192034

2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体及びネガ型感放射線性レジスト組成物

Inventor： 降▲旗▼ 智欣 ,  山田 素行
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995209075
Publication number (International publication number)：1996202037
Application date： Jul. 25, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】 式(1a)及び(1b)で示されるユニットからなり、重量平均分子量が3000〜50000である2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体。〔(但し、式中Rは水素原子又はメチル基であり、R1は式(2)で示される2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基である。)(但し、式中R2,R3,R4,R5のうち少なくとも1つは式(3)で示されるアルコキシメチル基であり、他は水素原子である。) -CH2OR6 (3)(但し、式中R6は炭素数1〜4のアルキル基である。)〕【効果】 レジスト組成物のベースポリマーとして有用であり、この重合体を配合したネガ型感放射線性レジスト組成物は、解像度及び現像特性が高く、しかも貯蔵安定性が良いもので、LSI用レジスト材料として極めて有用である。

Claim (excerpt)：

下記構造式(1a)で示されるユニット99〜50モル%と下記構造式(1b)で示されるユニット1〜50モル%とからなり、重量平均分子量が3000〜50000であることを特徴とする2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体。【化1】〔(但し、式中Rは水素原子又はメチル基であり、R1は下記構造式(2)で示される2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基である。)【化2】(但し、式中R2,R3,R4,R5のうち少なくとも1つは下記構造式(3)で示されるアルコキシメチル基であり、他は水素原子である。) -CH2OR6 (3)(但し、式中R6は炭素数1〜4のアルキル基である。)〕

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 531 ,  H01L 21/027