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J-GLOBAL ID：200903033095458336

近接場光露光装置

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001188219
Publication number (International publication number)：2003007593
Application date： Jun. 21, 2001
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 近接場光を用いてフォトレジスト等の感光材料に線幅の小さい直線状の微細パターンを露光可能とし、かつ、露光に要するコストを低く抑える。【解決手段】 非偏光状態の露光光15を発する露光光源16と、この露光光15の波長よりも小さい開口からなるパターンを有し、該露光光15が照射される位置に配される露光マスク14とを備えてなる近接場光露光装置において、露光光15を直線偏光化する偏光板20を設けるとともに、この偏光板20を、露光光源16と露光マスク14との間の露光光15の光路に入った位置と、この光路から外れた位置との間で移動自在に保持する偏光板保持手段22を設ける。
Claim (excerpt)：
非偏光状態の露光光を発する光源と、この露光光の波長よりも小さい開口からなるパターンを有し、該露光光が照射される位置に配される露光マスクと、前記露光光に感光する感光材料を、前記露光マスクの開口からしみ出した近接場光が届く位置に保持する露光台とを備えてなる近接場光露光装置において、前記露光光を直線偏光化する偏光板と、この偏光板を、前記光源と露光マスクとの間の露光光の光路に入った位置と、この光路から外れた位置との間で移動自在に保持する偏光板保持手段とが設けられたことを特徴とする近接場光露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D
F-Term (6)：
5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CA02 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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