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J-GLOBAL ID：200903033097327085

放射線感応性レジスト組成物

Inventor：
緒方 寿幸

About 緒方 寿幸

, 
駒野 博司

About 駒野 博司


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999328710
Publication number (International publication number)：2001147534
Application date： Nov. 18, 1999
Publication date： May. 29, 2001
Summary：
【要約】【課題】 波長160nm以下の超短波長放射線を光源に用いるリソグラフィープロセスにおいて、基材樹脂の光分解や架橋反応が起こりにくく、しかも耐ドライエッチング性に優れる放射線感応性レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)少なくとも1個の酸解離性溶解抑制基及び重合性二重結合を有する環状不飽和炭化水素単量体(a)の単独重合体、(A′)該単量体(a)とヒドロキシル基又はアルコキシル基及び重合性二重結合を有する環状不飽和炭化水素共単量体(a′)との共重合体及び(A′′)該単量体(a)と該共単量体(a′)と重合性二重結合を有する未置換環状不飽和炭化水素共単量体(a′′)との共重合体の中から選ばれた少なくとも1種の基材樹脂及び(B)放射線照射により酸を発生する酸発生剤との組み合せを含有する超短波長放射線感応性レジスト組成物とする。
Claim (excerpt)：
(A)少なくとも1個の酸解離性溶解抑制基及び重合性二重結合を有する環状不飽和炭化水素単量体(a)の単独重合体、(A′)該単量体(a)とヒドロキシル基又はアルコキシル基及び重合性二重結合を有する環状不飽和炭化水素共単量体(a′)との共重合体及び(A′′)該単量体(a)と該共単量体(a′)と重合性二重結合を有する未置換環状不飽和炭化水素共単量体(a′′)との共重合体の中から選ばれた少なくとも1種の基材樹脂及び(B)放射線照射により酸を発生する酸発生剤との組み合せを含有することを特徴とする超短波長放射線感応性レジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 32/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 32/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (39)：
2H025AA00 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J002BK001 ,  4J002EU186 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ05 ,  4J100AR04P ,  4J100AR04Q ,  4J100AR09P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06P ,  4J100BA06Q ,  4J100BA20P ,  4J100BC02P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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