リソグラフィー用マスクブランク及びリソグラフィー用マスク

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村静男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994048123
Publication number (International publication number)：1995261375
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】電子線による描画や検査の際のチャージアップを防止し得る帯電防止層を有するリソグラフィー用マスクブランクを提供する。【構成】亜鉛、ガリウムを含むスピネル型結晶またはカドミウム、アンチモンを含む鉛アンチモネート型結晶を含み、かつキャリアを有する導電性複合酸化物からなる帯電防止層を有することを特徴とするリソグラフィー用パターニングマスクブランク。

Claim (excerpt)：

亜鉛、ガリウムを含むスピネル型結晶またはカドミウム、アンチモンを含む鉛アンチモネート型結晶を含み、かつキャリアを有する導電性複合酸化物からなる帯電防止層を有することを特徴とするリソグラフィー用パターニングマスクブランク。

IPC (4)：

G03F 1/14 , G03F 1/08 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528 , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-221722 Applicant：ホーヤ株式会社
位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-129468 Applicant：三菱電機株式会社
位相シフトマスク用ブランクおよび位相シフトマスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-266328 Applicant：凸版印刷株式会社

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