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J-GLOBAL ID：200903033134832003

解析用メッシュ作成方法及び装置

Inventor： 山下 禎文 ,  森山 浩光 ,  河井 政雄 ,  田村 公孝
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994147410
Publication number (International publication number)：1996016629
Application date： Jun. 29, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】六面体要素によるメッシュ生成と四面体要素によるメッシュ生成を併用することにより高解析精度のメッシュを少ない労力で生成できるようにする。【構成】分割した全部分領域を可能な限り六面体メッシュ生成部により六面体メッシュを作成し、六面体メッシュ作成できなかった部分領域については、四面体メッシュ生成部により四面体メッシュを作成し、六面体メッシュ領域と四面体メッシュ領域とに隣接する部分領域については、四面体メッシュ生成部により、部分領域に隣接している他のメッシュ生成済み部分領域を部分領域デ-タ部から検索し、その隣接部分領域の隣接面上のメッシュ形状を表面メッシュ形状デ-タ部から取り出すことにより、表面のメッシュ形状がそれと一致するように内部にメッシュを生成する。

Claim (excerpt)：

複数の部分領域単位にメッシュを生成することで領域全体のメッシュを生成する解析用メッシュ作成方法において、解析対象領域を複数の部分領域に分割し、前記分割した全部分領域に六面体メッシュ領域を生成できるか判断し、六面体メッシュを生成できる部分領域は六面体メッシュ領域を生成し、六面体メッシュを生成できなかった部分領域については四面体メッシュ領域を生成し、六面体メッシュ領域と四面体メッシュ領域とに隣接する部分領域については、両者の境界部分で、四面体要素で生成された部分領域に属し六面体要素で生成された部分領域に隣接する面での全節点の座標値と、六面体要素で生成された部分領域に属し四面体要素で生成された部分領域に隣接する面での全節点の座標値とが、完全に一致する四面体メッシュ領域を生成することを特徴とする解析用メッシュ作成方法。