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J-GLOBAL ID：200903033145830592

プラズマデイスプレイパネルの製造方法

Inventor： 小川 哲也 ,  天津 正史 ,  堀尾 研二 ,  倉井 輝夫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 林 恒徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991160295
Publication number (International publication number)：1993012991
Application date： Jul. 01, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明はAC(交流)駆動形式の面放電型のプラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、特に電極を被覆する誘電体の形成方法に特徴を有し、広範囲に拡がる安定した面放電の生じるPDPを容易に製造することを目的とする。【構成】透明基板21上に断面形状が略台形状の一対の電極X1,Y1を形成する電極形成工程と、電極X1,Y1を含めて透明基板21の表面を一様に覆う絶縁体層25aを形成する絶縁体層形成工程と、絶縁体層25a上に、露光により可溶化するレジスト層41を形成するレジスト層形成工程と、透明基板21の裏面から電極X1,Y1を露光マスクとしてレジスト層41を露光する露光工程と、露光により可溶化した部分を除いたレジスト層41を用いて、絶縁体層25aを部分的に薄くするようにエッチングするエッチング工程とを含み、電極X1,Y1に対してセルフアライメントによって絶縁体を設けるように構成される。

Claim (excerpt)：

透明基板(21)上に断面形状が略台形状の一対の電極(X1,X2)(Y1,Y2)を形成する電極形成工程と、前記電極(X1,X2)(Y1,Y2)を含めて前記透明基板(21)の表面を一様に覆う絶縁体層(25a)を形成する絶縁体層形成工程と、前記絶縁体層(25a)上に、露光により可溶化するレジスト層(41)を形成するレジスト層形成工程と、前記透明基板(21)の裏面から前記電極(X1,X2)(Y1,Y2)を露光マスクとして前記レジスト層(41)を露光する露光工程と、露光により可溶化した部分を除いた前記レジスト層(41)を用いて、前記絶縁体層(25a)を部分的に薄くするようにエッチングするエッチング工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

IPC (2)：

H01J 9/02 ,  H01J 11/00