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J-GLOBAL ID:200903033157273982

離型剤組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 滝田 清暉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991202450
Publication number (International publication number):1993024047
Application date: Jul. 17, 1991
Publication date: Feb. 02, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 耐久性と共に離型性に優れるシリコーン被膜形成用の離型剤組成物の提供。【構成】 下記(a)〜(c)成分から成る離型剤組成物。(a)R1 SiO3/2 構造単位及びR1 2 SiO2/2 構造単位のモル比が95/5〜50/50(式中のR1 は1種以上の炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基)からなるシリコーン樹脂0.1〜50重量%、(b)一般式(1)(式中のR2 は1種以上の炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基、R3 は水酸基若しくは炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基であり、且ついづれもフェニル基が0.01〜20モル%含有されている。mは平均値で40〜20,000)で示されるフェニル基含有線状オルガノポリシロキサン0.01〜10重量%、及び(c)(a)及び(b)成分を溶解し得る有機溶剤99.89〜50重量%。
Claim (excerpt):
(a):R1 SiO3/2 構造単位及びR1 2 SiO2/2 構造単位(式中のR1 は炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基から選択される1種又は2種以上の有機基である)から本質的に成り且つR1 SiO3/2 /R1 2 SiO2/2 のモル比が95/5〜50/50である有機溶剤可溶性のシリコーン樹脂0.1〜50重量%、(b):一般式(化1)(式中のR2 は炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基から選択される1種又は2種以上の有機基であり、R3 は水酸基又は炭素数1〜18の飽和又は不飽和の1価の炭化水素基であり且つフェニル基がR2 及びR3 の全置換基中に0.01〜20モル%含有されている。mは平均値で40〜20,000である)【化1】で示されるフェニル基含有線状オルガノポリシロキサン0.01〜10重量%及び(c):(a)並びに(b)成分を溶解し得る有機溶剤99.89〜50重量%から成る離型剤組成物。
IPC (6):
B29C 33/64 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/54 ,  C08L 83/04 LRT ,  C08L 83/04 LRU ,  C08L 83/04 LRZ

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