Pat

J-GLOBAL ID：200903033167988769

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 加藤 勝 ,  大房 一樹 ,  田口 裕務 ,  中川 修太
Applicant, Patent owner： 東亞合成株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994060278
Publication number (International publication number)：1995244376
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【構成】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基含有化合物を有機溶媒に溶解してなるポジ型フォトレジスト組成物において、有機溶媒がジエチルカーボネートと乳酸エチルの混合溶媒であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、塗布性、保存安定性および安全性に優れたもので、特に液晶表示素子製造に極めて有用である。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基含有化合物を有機溶媒に溶解してなるポジ型フォトレジスト組成物において、有機溶媒がジエチルカーボネートと乳酸エチルの混合溶媒であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027