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J-GLOBAL ID：200903033170941935

偏光板の製造方法

Inventor： 市村 國宏 ,  石月 紀男
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997183241
Publication number (International publication number)：1999014830
Application date： Jun. 25, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】光活性分子層を使用した偏光板の製造方法において、光活性分子層が接触等の外的要因によって配列が乱れてしまうことを防止した偏光板の製造方法の開発。【解決手段】基板上の、光二量化型の感光性基を側鎖に有する光活性高分子層に、紫外線偏光を照射し、ついで該層の上に二色性分子を含む層を設けることを特徴とする偏光板の製造方法。

Claim (excerpt)：

基板上の、光二量化型の感光性基を側鎖に有する高分子層に、紫外線偏光を照射し、ついで該層の上に二色性分子を含む層を設けることを特徴とする偏光板の製造方法。

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02B 1/04

FI (2)：

G02B 5/30 ,  G02B 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 液晶表示素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-111063   Applicant：日本化薬株式会社