合焦装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998266623
Publication number (International publication number)：2000098219
Application date： Sep. 21, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】本発明は、被検体ごとに必要とする合焦検索範囲を設定でき、合焦検索動作に要する時間を大幅に短縮できる合焦装置を提供する。【解決手段】半導体ウェハ6’面に対物レンズ5を通して測定光を照射するとともに、その反射光に基づいて対物レンズ5を光軸方向に移動させて半導体ウェハ6’面に対する合焦を検索するもので、半導体ウェハ6’上に設定される測定ラインSPに沿って対物レンズ5の光軸を移動しつつ合焦動作を行なうとともに、各測定点での対物レンズ5の光軸方向の座標位置をカウンタ17により検出し、この時の座標位置の最大値と最小値から合焦検索範囲設定手段18により合焦検索範囲を設定し、この設定された合焦検索範囲に基づいて半導体ウェハ6’面に対する合焦動作を実行する。

Claim (excerpt)：

被検体面に対物レンズを通して測定光を照射するとともに、その反射光に基づいて前記被検体と対物レンズの距離を光軸方向に相対的に移動させて前記被検体面に対する合焦を検索する合焦装置において、前記被検体上に設定される測定ラインに沿って合焦動作を行なうとともに、各測定点での前記被検体または対物レンズの前記光軸方向の位置を検出する位置検出手段と、この位置検出手段で検出された前記被検体または対物レンズの前記光軸方向の位置の最大値と最小値から合焦検索範囲を設定する合焦検索範囲設定手段とを具備し、この合焦検索範囲設定手段により設定された合焦検索範囲に基づいて前記被検体面に対する合焦動作を実行することを特徴とする合焦装置。

IPC (3)：

G02B 7/38 , G02B 7/28 , G02B 21/26

FI (4)：

G02B 7/11 E , G02B 21/26 , G02B 7/11 N , G02B 7/11 J

F-Term (17)：

2H051AA10 , 2H051AA11 , 2H051BA53 , 2H051BA70 , 2H051CB06 , 2H051CD11 , 2H051DD20 , 2H051FA38 , 2H051FA47 , 2H051FA52 , 2H051FA76 , 2H051GB11 , 2H052AC04 , 2H052AD09 , 2H052AD18 , 2H052AD20 , 2H052BA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭62-134502
パターン位置測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-176879 Applicant：株式会社ニコン
特開平1-281413

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